钛合金在500℃～650℃下的氧化行为研究

• 作者: 刘新灵 刘高远 张卫方 赵爱国 陶春虎
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钛合金 氧化行为 氧影响区
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 组织与性能
• 页码范围: 55-58
• 页数: 4页
• 分类号: TG1462.2|TG113.23
• 字数: 3293字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2003.02.014

摘要

采用XPS试验对Ti811钛合金在500℃～650℃下、50h的氧化行为进行了分析,利用扫描俄歇微探针对氧化后试样表面的氧影响区进行了研究,并对其影响机制进行了探讨.结果表明,温度为550℃时,试样表面生成的氧化膜较致密;温度在500℃～600℃之间时,试样表面氧化膜的厚度随温度的增加的幅度较小,温度高于600℃后迅速增加;而氧缓慢扩散区厚度则在500℃～650℃之间随温度的升高持续增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卫方	北京航空材料研究院失效分析中心	53	478	13.0	18.0
2	陶春虎	北京航空材料研究院失效分析中心	118	1251	18.0	27.0
3	赵爱国	北京航空材料研究院失效分析中心	21	158	8.0	11.0
4	刘新灵	北京航空材料研究院失效分析中心	40	282	9.0	14.0
5	刘高远	北京航空材料研究院失效分析中心	19	160	8.0	11.0