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摘要:
磁控溅射镀膜后的ITO废靶, 以及ITO靶材生产中产生的边角料、切屑、废品等是再生铟的主要原料. 对废靶的还原-二次电解工艺进行了研究, 并获得了工艺参数良好、回收率高、纯度为99.993%的金属铟产品.
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射频磁控溅射
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 ITO废靶回收金属铟
来源期刊 稀有金属 学科 工学
关键词 回收 ITO废靶
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 101-103
页数 3页 分类号 TN304.057
字数 2071字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0258-7076.2003.01.024
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈志飞 11 202 9.0 11.0
2 陈坚 14 93 5.0 9.0
3 姚吉升 5 130 5.0 5.0
4 周友元 5 59 3.0 5.0
5 王玺 1 41 1.0 1.0
6 黄军武 1 41 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
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回收
ITO废靶
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