非晶硅薄膜的激光晶化及深度剖析喇曼光谱研究

• 作者: 俞钢 张光寅 张存洲 徐晓轩 朱箭 李洪波 林海波 武中臣
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米微晶硅 共焦喇曼光谱仪 深度剖析 激光晶化
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 426-430
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 3262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.04.022

摘要

利用共焦显微喇曼光谱仪,对采用PECVD方法制备的非晶硅薄膜进行了退火晶化.晶化后薄膜的喇曼光谱表明,薄膜由非晶硅结构转变为微晶硅结构,同时根据微晶硅结构的喇曼光谱的晶化峰位的移动,可以计算出晶化后微晶硅晶粒尺寸为5nm左右.在对晶化后的薄膜进行深度剖析喇曼光谱研究中,对光谱进行分峰拟合,根据晶化峰的积分强度和非晶峰的积分强度的深度剖析曲线,可以看出晶化程度最高的部分位于薄膜中央,也就是在薄膜上层和接近衬底底部材料结构仍是非晶硅结构,而位于薄膜中间的材料结构转变为微晶硅结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪波	南开大学光电子器件与薄膜研究所	7	141	7.0	7.0
2	张存洲	南开大学光子学中心	53	388	12.0	17.0
3	张光寅	南开大学光子学中心	129	1165	18.0	26.0
4	林海波	南开大学光子学中心	10	89	4.0	9.0
5	徐晓轩	南开大学光子学中心	51	387	12.0	16.0
6	武中臣	南开大学光子学中心	10	79	5.0	8.0
7	朱箭	南开大学光子学中心	13	95	4.0	9.0