退火对多晶ZnO薄膜结构与发光特性的影响

• 作者: 刘雪芹 徐大印 方泽波 王印月 黄春明 龚恒翔
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 退火 光致发光 射频反应溅射
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1748-1751
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.07.035

摘要

用射频反应溅射法在Si(111)衬底上制备了C轴取向的多晶ZnO薄膜,通过不同温度的退火处理,研究了退火对多晶ZnO薄膜结构和发光特性的影响.由x射线衍射得知,随退火温度的升高,晶粒逐渐变大,薄膜中压应力由大变小至出现张应力.光致发光测量发现,样品在430nm附近有一光致发光峰, 峰的强度随退火温度升高而减弱,联合样品电阻率随退火温度升高而逐渐变大的测量及能级图,推测出ZnO薄膜中的蓝光发射主要来源于锌填隙原子缺陷能级与价带顶能级间的跃迁.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方泽波	兰州大学物理系	7	112	5.0	7.0
2	王印月	兰州大学物理系	39	567	15.0	23.0
3	刘雪芹	兰州大学物理系	19	195	8.0	13.0
4	黄春明	兰州大学物理系	3	73	3.0	3.0
5	龚恒翔	兰州大学物理系	7	114	4.0	7.0
6	徐大印	兰州大学物理系	3	82	3.0	3.0