脉冲激光沉积NiZn铁氧体薄膜的微观结构和磁性

• 作者: 奚小网 陈亚杰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微观结构 磁性 脉冲激光沉积(PLD) NiZn铁氧体 薄膜
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 195-198,211
• 页数: 5页
• 分类号: TM277+.4
• 字数: 2219字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.03.011

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,分别在单晶硅基片和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜,薄膜为单相尖晶石结构,在两种基片上都呈现出一定的(400)晶面的择优取向,但在硅基片上择优生长更显著;随着基片温度t的升高,薄膜晶粒尺寸逐渐增大;在t=500 ℃附近饱和磁化强度Ms出现最小值,而矫顽力Hc出现最大值;对薄膜进行退火处理,可使细小晶粒长大和内应力减小,对改善较低温度条件下制备的薄膜的软磁特性具有明显作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	奚小网		24	98	5.0	8.0
2	陈亚杰	苏州大学物理系	10	68	4.0	8.0