气体介质对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响

• 作者: 孙超 宋贵宏 汪伟 汪爱英 邹友生 闻立时 黄荣芳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电弧离子镀 类金刚石膜 微观结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 页码范围: 613-617
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.014

摘要

采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上分别在高纯Ar、高纯H2和C2H2的气氛下沉积类金刚石膜,利用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对沉积膜的结构进行了分析.结果表明与在高纯H2和C2H2气氛下相比,在高纯Ar中沉积类金刚石膜Raman谱的ID/IG值最小,膜中sp3C含量最高为35.55%.纳米压痕仪测量结果表明不同气氛下沉积膜的硬度和弹性模量分别在16.7～34.8GPa和143.2～236.9GPa之间变化.在高纯Ar气氛下沉积膜的硬度和弹性模量最大分别为34.8GPa和236.9GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
2	汪爱英	中国科学院金属研究所	33	206	9.0	13.0
3	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
4	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
5	宋贵宏		25	145	7.0	11.0
6	邹友生	中国科学院金属研究所	5	46	4.0	5.0