基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响

• 作者: 付恩刚 吴敏生 庄大明 张弓 方玲 杨伟方 梁展鸿
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZAO薄膜 基体温度 电阻率 透射率
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3039字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.01.004

摘要

利用中频交流磁控溅射方法,采用氧化锌铝陶瓷靶材[w(ZnO)=98%、w(Al2O3)=2%]制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜,观察了基体温度对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响,采用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析,采用光学分度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性,采用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率.结果表明:沉积薄膜时的基体温度对薄膜的结构、结晶状况、可见光透射率以及导电性有较大的影响.当基体温度为250 ℃,Ar分压为0.8 Pa时,薄膜的最低电阻率为4.6×10-4 Ω*cm,方块电阻为35 Ω时,可见光(λ=550 nm)透射率高达92.0%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张弓	清华大学机械工程系	81	914	16.0	27.0
2	庄大明	清华大学机械工程系	104	1374	22.0	32.0
3	吴敏生	清华大学机械工程系	60	904	18.0	27.0
4	方玲	清华大学机械工程系	9	144	6.0	9.0
5	梁展鸿	清华大学机械工程系	3	39	3.0	3.0
6	付恩刚	清华大学机械工程系	5	127	5.0	5.0