红外焦平面阵列非均匀性校正算法的分析和改进

• 作者: 刘会通 孔令彬
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 红外技术 红外焦平面阵列 非均匀性校正 算法分析
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 光电技术应用
• 页码范围: 360-362
• 页数: 3页
• 分类号: TN215
• 字数: 2135字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2003.05.019

摘要

介绍了红外焦平面阵列所存在的非均匀性问题对系统性能的影响,分析了非均匀性校正通常所采用的标定法的缺陷,以及一种常用的自适应算法在实施中的一些问题,探索了各自的实用性和局限性以及某些可能的改进.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘会通	华中科技大学光电子工程系	9	240	8.0	9.0
2	孔令彬	华中科技大学光电子工程系	6	89	5.0	6.0