高质量金刚石膜在无氧铜衬底上的MPCVD

• 作者: 常开朋 张阳 朱鹤孙 江锦春 沈德忠 程文娟
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 无氧铜 微波等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 382-385
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1755字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2003.04.020

摘要

本文采用高纯无氧铜(Cu)片作为基片,用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,制备出了高质量多晶金刚石膜.用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱和X射线衍射谱(XRD)对制备的金刚石膜进行了表征与分析,其结果证明金刚石膜具有较优的质量.