基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
利用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体,通过改变放电气体中N2的流量 (N2流量比分别为5%,10%,30%,50%)及溅射时间(160,30,20,10,5min),在玻璃衬底上沉积了FexN薄膜.用X射线光电子能谱(XPS)方法确定了不同N2流量下薄膜的成分;X射线衍射(XRD)方法分析了不同N2流量下的FexN薄膜结构,当N2流量比为5%时获得了FeN0.056相,10%时为ε-Fe3N相,30%和50%流量比下均得到FeN相.利用原子力显微镜(AFM)和掠入射X射线散射(GIXA)方法研究了膜表面的粗糙度和形貌,发现随着N2流量的增加,薄膜表面光滑度增加,薄膜表面呈现自仿射性质.动力学标度方法定量分析表明:薄膜表面因不同N2流量的影响而具有不同的动力学指数,当氮气流量比为5%时,静态标度指数α≈0.65,生长指数β≈0.53±0.02,薄膜生长符合基于Kolmogorov提出的能量波动概念的KPZ模型指数规律.
推荐文章
中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究
氮化铝
形貌
折射率
磁控溅射
非晶氮化铁薄膜的生长机制——传统动力学生长标度方法的适用性
非晶氮化铁薄膜
动力学标度方法
热重新发射模型
溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响
氮化钛薄膜
磁控溅射
溅射气压
光学性能
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度
来源期刊 发光学报 学科 物理学
关键词 氮化铁薄膜 动力学标度 直流磁控溅射
年,卷(期) 2003,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 431-434
页数 5页 分类号 O484.1
字数 2602字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.04.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郑伟涛 吉林大学材料科学与工程学院 48 245 8.0 13.0
2 徐娓 吉林大学化学系 11 44 3.0 6.0
3 王欣 吉林大学材料科学与工程学院 171 884 14.0 22.0
4 杨开宇 吉林大学电子科学与工程学院 20 110 6.0 9.0
5 于陕升 吉林大学材料科学与工程学院 7 47 4.0 6.0
6 郭巍 吉林大学化学系 56 927 14.0 29.0
7 高丽娟 吉林大学材料科学与工程学院 7 30 4.0 5.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (13)
节点文献
引证文献  (4)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1988(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1989(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1990(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
1991(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
1992(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
1993(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1996(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2003(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2011(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2018(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2019(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2020(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氮化铁薄膜
动力学标度
直流磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
论文1v1指导