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直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度
直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度
作者:
于陕升
徐娓
杨开宇
王欣
郑伟涛
郭巍
高丽娟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氮化铁薄膜
动力学标度
直流磁控溅射
摘要:
利用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体,通过改变放电气体中N2的流量 (N2流量比分别为5%,10%,30%,50%)及溅射时间(160,30,20,10,5min),在玻璃衬底上沉积了FexN薄膜.用X射线光电子能谱(XPS)方法确定了不同N2流量下薄膜的成分;X射线衍射(XRD)方法分析了不同N2流量下的FexN薄膜结构,当N2流量比为5%时获得了FeN0.056相,10%时为ε-Fe3N相,30%和50%流量比下均得到FeN相.利用原子力显微镜(AFM)和掠入射X射线散射(GIXA)方法研究了膜表面的粗糙度和形貌,发现随着N2流量的增加,薄膜表面光滑度增加,薄膜表面呈现自仿射性质.动力学标度方法定量分析表明:薄膜表面因不同N2流量的影响而具有不同的动力学指数,当氮气流量比为5%时,静态标度指数α≈0.65,生长指数β≈0.53±0.02,薄膜生长符合基于Kolmogorov提出的能量波动概念的KPZ模型指数规律.
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文献信息
篇名
直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度
来源期刊
发光学报
学科
物理学
关键词
氮化铁薄膜
动力学标度
直流磁控溅射
年,卷(期)
2003,(4)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
431-434
页数
5页
分类号
O484.1
字数
2602字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-7032.2003.04.023
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郑伟涛
吉林大学材料科学与工程学院
48
245
8.0
13.0
2
徐娓
吉林大学化学系
11
44
3.0
6.0
3
王欣
吉林大学材料科学与工程学院
171
884
14.0
22.0
4
杨开宇
吉林大学电子科学与工程学院
20
110
6.0
9.0
5
于陕升
吉林大学材料科学与工程学院
7
47
4.0
6.0
6
郭巍
吉林大学化学系
56
927
14.0
29.0
7
高丽娟
吉林大学材料科学与工程学院
7
30
4.0
5.0
传播情况
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引文网络
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节点文献
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参考文献(2)
二级参考文献(0)
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节点文献
氮化铁薄膜
动力学标度
直流磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
主办单位:
中国物理学会发光分会
中科院长春光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7032
CN:
22-1116/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路16号
邮发代号:
12-312
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
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