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硅片的化学清洗技术
硅片的化学清洗技术
作者:
张厥宗
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硅片的化学清洗技术
来源期刊
洗净技术
学科
工学
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年,卷(期)
2003,(4)
所属期刊栏目
技术交流
研究方向
页码范围
27-31
页数
5页
分类号
TN3
字数
6060字
语种
中文
DOI
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张厥宗
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洗净技术
主办单位:
中国洗净工程技术合作协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-2248
CN:
11-5015/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
82-629
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
383
总下载数(次)
1
总被引数(次)
1667
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