CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征

• 作者: 张俊英 潘锋 王天民 王金良 郑树凯 郝维昌
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: TiO2薄膜 CeO2掺杂 共溅射
• 年，卷（期）: 2003,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2003.11.006

摘要

以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王天民	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	140	1545	22.0	32.0
2	王金良	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	24	125	7.0	10.0
3	张俊英	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	26	205	9.0	13.0
4	郝维昌	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	44	459	11.0	20.0
5	潘锋	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	25	121	6.0	10.0
6	郑树凯	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	4	89	3.0	4.0