磁性多层膜的正巨磁电阻特性

• 作者: 张栋杰 都有为
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 正巨磁电阻 多层膜 取向生长
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 652-653,659
• 页数: 3页
• 分类号: O482.54
• 字数: 2094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.06.016

摘要

采用离子束溅射方法制备了正巨磁电阻多层膜,在制备过程中采用外加磁场和退火处理.在室温条件下多层膜的巨磁电阻效应达到200%～300%,并用磁矩取向的双电流导电模型对正磁电阻的机理进行了解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	都有为	南京大学固体微结构国家重点实验室	108	1372	18.0	34.0
2	张栋杰	南京师范大学分析测试中心材料科学实验室	24	120	6.0	10.0