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摘要:
提出了一种新型结构的硅光电负阻器件--光电双耦合区晶体管(photoelectric dual coupled area transistor,PDUCAT),它是由一个P+N结光电二极管和位于两侧的两个纵向NPN管构成的.由于两个NPN管到光电二极管的距离不同,使得它们对光生空穴电流的争抢能力随外加电压的变化产生差异,同时两个NPN管电流放大系数相差较大,最终导致器件负阻现象的出现.文中对PDUCAT进行了工艺模拟和器件模拟,围绕着负阻的形成机理和影响器件性能的主要参数进行了讨论,初步建立了器件模型.
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文献信息
篇名 一种新型结构的光电负阻器件
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 光电器件 负阻 模拟 晶体管
年,卷(期) 2003,(10) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1078-1083
页数 6页 分类号 TN32
字数 2899字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.10.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李丹 天津大学电子信息工程学院 28 400 9.0 19.0
2 郭维廉 天津大学电子信息工程学院 145 419 10.0 12.0
3 李树荣 天津大学电子信息工程学院 38 187 9.0 11.0
4 郑云光 天津大学电子信息工程学院 28 73 6.0 6.0
5 夏克军 天津大学电子信息工程学院 5 10 2.0 2.0
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光电器件
负阻
模拟
晶体管
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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