XEA枪聚焦性能研究

• 作者: 李朝明 董北斗 邹小豹
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦 会聚 偏转像散 最小交叉截面
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: TN947
• 字数: 3517字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2003.05.006

摘要

日立公司的EA-UB电子枪是比较成熟的产品,形成了EA-UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品,用于大屏幕彩管.为了进一步改进电子枪的聚焦性能,保证大屏幕纯平面彩管的品位,日立公司最近开发出新一代XEA电子枪.本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟,对该枪优异性能的内在原因进行了分析和研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李朝明		24	17	3.0	3.0
2	董北斗		18	16	3.0	3.0
3	邹小豹		9	13	2.0	3.0