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摘要:
采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜.XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的.室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射和深能级发射.
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文献信息
篇名 射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性
来源期刊 发光学报 学科 物理学
关键词 ZnO薄膜 RF磁控溅射 光荧光谱
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 73-75
页数 3页 分类号 O482.31
字数 1380字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.01.013
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
RF磁控溅射
光荧光谱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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