微透镜列阵光刻工艺过程的模拟与分析

• 作者: 杜春雷 潘丽 董小春 陈波
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微透镜列阵 数学模型 光刻工艺
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: TH703|TN405.7
• 字数: 2081字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2003.12.010

摘要

建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果的分析提供了可靠的依据,对整个光刻工艺过程具有指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈波	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	167	1116	17.0	24.0
2	杜春雷	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	72	596	14.0	18.0
3	董小春	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	20	154	8.0	11.0
4	潘丽	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	10	66	5.0	7.0