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摘要:
通过封装内部气氛、芯片显微、能谱等分析手段对国内某研究所研制砷化镓微波单片集成电路高温加速寿命试验后的样品进行了失效分析,对其失效机理进行探讨,得出:封装气密性不好、工艺造成的缺陷是引起失效的主要原因,也是造成国内产品质量与可靠性不如国外同类产品的重要原因.
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文献信息
篇名 砷化镓微波单片集成电路的失效分析
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 砷化镓 微波单片集成电路 失效分析
年,卷(期) 2003,(9) 所属期刊栏目 HIC技术
研究方向 页码范围 30-32
页数 3页 分类号 TN454
字数 2912字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2003.09.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 莫郁薇 7 30 4.0 4.0
2 张增照 11 56 5.0 6.0
3 郑丽香 3 12 2.0 3.0
4 吴海东 4 24 4.0 4.0
传播情况
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2018(1)
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  • 二级引证文献(1)
2019(1)
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2020(5)
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  • 二级引证文献(5)
研究主题发展历程
节点文献
砷化镓
微波单片集成电路
失效分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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31758
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