硅基籽晶上化学气相沉积金刚石薄膜及其场发射特性

• 作者: 元光 宋航 李志明 缪国庆 蒋红 赵海峰 金亿鑫
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 场发射 籽晶密度 电泳沉积
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 313-317
• 页数: 5页
• 分类号: TN141.39|TN873.95
• 字数: 2172字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.03.021

摘要

通过控制电泳沉积(EPD)时间,在硅基片上沉积不同密度的金刚石籽晶.再用热丝化学气相沉积(HFCVD)设备,在硅基籽晶上合成多晶金刚石薄膜.薄膜中通常含有非金刚石相碳成分.用扫描电子显微镜(SEM)和Raman光谱对样品的表面形貌和成分进行了表征,测量了样品的场发射特性.比较并分析了样品的表面形貌和非金刚石成分上的差异对金刚石薄膜场发射特性的影响.