F2型离子膜电解槽泄漏原因及改进措施

• 作者: 曹红忠 武秀梅 王耀斌 赵建波 霍春玲
• 来源期刊: 氯碱工业
• 学科: 工学
• 关键词: F2型离子膜电解槽 泄漏 原因 措施
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 电解
• 页码范围: 20-21
• 页数: 2页
• 分类号: TQ114.262
• 字数: 2605字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-133X.2003.01.006

摘要

探讨了太化股份有限公司氯碱分公司F2型离子膜电解槽泄漏原因及改进措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王耀斌		5	27	1.0	5.0
2	武秀梅		2	1	1.0	1.0
3	曹红忠		2	1	1.0	1.0
4	赵建波		1	1	1.0	1.0
5	霍春玲		1	1	1.0	1.0