机械研磨对氢氧化镍结构和电化学性能的影响

• 作者: 余丹梅 周上祺 王华清 陈昌国
• 来源期刊: 电池
• 学科: 工学
• 关键词: MH/Ni电池 氢氧化镍 研磨
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 科研论文
• 页码范围: 215-217
• 页数: 3页
• 分类号: TM912.2
• 字数: 2984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1579.2003.04.006

摘要

通过X射线衍射结构分析(XRD)、扫描电镜和循环伏安法研究了机械研磨对Ni(OH)2结构和电化学性能的影响.结果表明:研磨使氢氧化镍的晶格常数c值、晶粒尺寸和颗粒度均减小,比表面增加,从而促进了质子在氢氧化镍中的嵌入和脱出,提高了电极的可逆性.析氧反应也随之加强,导致镍电极的充电效率和活性物质的利用率降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈昌国	重庆大学应用化学系	143	1433	20.0	32.0
2	周上祺	重庆大学材料科学与工程学院	85	912	16.0	27.0
3	余丹梅	重庆大学应用化学系	47	423	10.0	19.0
4	王华清	重庆大学材料科学与工程学院	8	53	5.0	7.0