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RuO2基厚膜电阻电脉冲调阻工艺研究
RuO2基厚膜电阻电脉冲调阻工艺研究
作者:
王吉刚
董述恂
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电脉冲调阻
二氧化钌基厚膜电阻器
电阻返烧
摘要:
用厚膜法制备了RuO2基厚膜电阻,研究了电阻值变化与脉冲电压的关系,分析了调阻工艺的特点;测量了电阻的可调整极限,目标值、偏差与初始电阻的特性,最佳阻值调整范围;研究了二次烧结对调整电阻值的影响规律.
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文献信息
篇名
RuO2基厚膜电阻电脉冲调阻工艺研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
电脉冲调阻
二氧化钌基厚膜电阻器
电阻返烧
年,卷(期)
2003,(1)
所属期刊栏目
经验点滴
研究方向
页码范围
42-43,45
页数
3页
分类号
TM54
字数
1810字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-2028.2003.01.015
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王吉刚
1
8
1.0
1.0
2
董述恂
1
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研究主题发展历程
节点文献
电脉冲调阻
二氧化钌基厚膜电阻器
电阻返烧
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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