择优取向铁电薄膜制备影响因素的分析

• 作者: 庄志强 王悦辉
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 择优取向 铁电薄膜 衬底 热处理
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TG15
• 字数: 4554字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2003.04.011

摘要

制备性能优良、高度择优取向或外延生长、成分均匀、结构可控的晶态铁电薄膜材料,是发展铁电薄膜应用的基础.随着铁电薄膜在微电子学,光电子学和集成光学等领域的应用不断扩大,如何制备高性能的铁电薄膜材料一直称为人们关注的热点.对择优取向铁电薄膜材料制备技术中的主要影响因素进行了分析,希望能为从事此方面工作的研究者提供一定的借鉴.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄志强	华南理工大学材料科学与工程学院	61	663	13.0	23.0
2	王悦辉	华南理工大学材料科学与工程学院	7	181	5.0	7.0