膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响

• 作者: 向文欣 应诗浩 张西鹏 李伟 李聪 沈保罗 范洪远 邱绍宇
• 来源期刊: 核动力工程
• 关键词: 锆合金 铬膜 厚度 组织 附着性
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 燃料与材料
• 页码范围: 245-248
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4+14
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-0926.2003.03.014

摘要

研究了膜层厚度对锆合金基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响.用扫描电镜观察了界面形貌,用原子力显微镜观察了膜层表面形貌,用能谱仪测定了界面成分,用划痕法测定了铬膜的附着性.结果表明:膜/基界面结合良好,界面上存在成分梯度,成分升降区狭窄;随着铬膜厚度从0.5μm增加到2.0μm,晶粒迅速长大、致密的细纤维状组织的端面出现拱形,铬膜层附着性降低约50%;但铬膜厚度达1.0μm后,晶粒长大的速度和铬膜附着性下降的速度同时趋缓,表明铬膜的附着性与其晶粒大小有明显关系.膜层厚度增加引起膜层附着性下降的主要原因是由于厚度增加所带来的膜层组织及力学性能变化和膜层应力增加.