种子层(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx成分及厚度对Ni0.81Fe0.19薄膜磁性和微结构的影响

• 作者: 于广华 张辉 朱逢吾 李海峰 马纪东
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni0.81Fe0.19薄膜,(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx种子层,各向异性磁电阻,晶粒尺寸,111织构
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 页码范围: 1043-1046
• 页数: 4页
• 分类号: TG113
• 字数: 2883字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2003.10.006

摘要

用直流磁控溅射方法制备了性能优良的以(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx为种子层的Ni0.81Fe0.19薄膜,研究了种子层成分及厚度对薄膜磁性和微结构的影响,结果表明:当种子层(Ni0.81Fe0.19)0.63Cr0.37厚度为5.5 nm时,Ni0.81Fe019(20.0 nm)薄膜的各向异性磁电阻(AMR)值为(2.53±0.06)%;当Cr的含量为0.36时,Ni0 81Fe0.19(60.0 nm)薄膜的AMR值为(3.35±0.06)%.AFM及XRD研究表明:不同厚度缓冲层(厚度分别为2.8,5.5和8.3 nm)的Ni0.81Fe0.19(20.0 nm)薄膜表面平均晶粒尺寸基本都为35.2 nm,但其111织构相差很大,AMR值最大时,对应的111衍射峰最强;不同Cr含量(分别为0.28,0.36和0.41)的Ni0.81Fe0.19(60.0 nm)薄膜表面平均晶粒尺寸和111衍射峰相差都很明显,AMR值最大时,对应地薄膜表面平均晶粒尺寸最大,Ni0.81Fe0.19111衍射峰也最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理与化学系	88	372	9.0	14.0
2	朱逢吾	北京科技大学材料物理与化学系	54	229	8.0	12.0
3	张辉	北京科技大学材料物理与化学系	84	366	10.0	14.0
4	马纪东	北京科技大学材料物理与化学系	9	52	4.0	7.0
5	李海峰	北京科技大学材料物理与化学系	3	11	1.0	3.0