SEZ揭开业界最高产的采用90NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱

• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 达芬奇 单晶 小空间 半导体 模块化 矛盾统一 清洗技术 创新技术 处理方法 处理技术
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 页码范围: 38
• 页数: 1页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文

摘要

半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的"Da Vinci达芬奇"系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平的可用性和可靠性而称雄市场.该系列采用了模块化的多气