ULSI硅衬底片清洗技术的分析研究

• 作者: 刘玉岭 张楷亮 李薇薇 檀柏梅
• 来源期刊: 洗净技术
• 学科: 工学
• 关键词: ULSI 衬底单晶片 清洗方法 表面活性剂 兆声清洗
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 专家论坛
• 页码范围: 4-8
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 4564字
• 语种: 中文

摘要

本文阐述了ULSI硅衬底片清洗的重要性,介绍了目前世界上采用的各种清洗方法(湿法、干法、超声、激光等)的概况,并通过理论分析及清洗实验研究找出适用于工业规模应用的硅片清洗液和清洗技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	檀柏梅	河北工业大学微电子研究所	85	534	13.0	18.0
2	刘玉岭	河北工业大学微电子研究所	263	1540	17.0	22.0
3	李薇薇	河北工业大学微电子研究所	27	172	8.0	10.0
4	张楷亮	河北工业大学微电子研究所	20	581	14.0	20.0