高度有序多孔氧化铝膜的制备和研究

• 作者: 刘锴 孙颖慧 王永昌 赵军武 黄丽清
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 多孔氧化铝 阳极氧化 电化学抛光
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 页码范围: 1094-1097
• 页数: 4页
• 分类号: O646.542
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2003.10.026

摘要

分别用一步和二步阳极氧化法制备了多孔氧化铝膜,制备出了高度有序、六方柱形结构的多孔氧化铝膜.用原子力显微镜观察了不同电化学抛光条件下抛光铝样品表面的微观结构,探索出了电化学抛光预处理的最佳工艺条件:在温度为10 ℃、乙醇和高氯酸体积比为4∶1的混合液中,于恒电压55 V的条件下,对铝片进行电化学抛光30 s.为进一步组装各种纳米结构材料打下了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永昌	西安交通大学理学院	65	635	16.0	21.0
2	黄丽清	西安交通大学理学院	19	161	6.0	12.0
3	赵军武	西安交通大学理学院	24	290	9.0	17.0
4	刘锴	西安交通大学理学院	2	33	1.0	2.0
5	孙颖慧	西安交通大学理学院	1	33	1.0	1.0