半导体IC清洗技术

• 作者: 李仁
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 湿法清洗 RCA清洗 稀释化学法 IMEC清洗法 单晶片清洗 干法清洗
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 集成电路制造技术
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 4457字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2003.09.012

摘要

介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法，并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李仁	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	0	0.0	0.0