可写光盘光密度曲线模型的研究及应用

• 作者: 岳宏达 潘龙法
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 染料旋涂 光密度 曲线模型 工艺参数 闭环控制
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 549-551,554
• 页数: 4页
• 分类号: TP333.4
• 字数: 3299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2003.05.001

摘要

利用光密度曲线模型优化可写光盘的染料旋涂工艺.模型具有4个特征点和3个特征线段.特征点的位置反映了平移效应和填充效应的综合效果.特征线段的斜率反映了薄膜表面的平面度.借助模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量,并最终实现闭环生产控制.