基于硅胶表面修饰的分子印迹技术研究进展

• 作者: 周晓 徐丰 徐伟箭 项伟中
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅胶 表面修饰 分子印迹技术 综述
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 919-923
• 页数: 5页
• 分类号: O635
• 字数: 3735字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2003.10.001

摘要

简述了分子印迹聚合物传统合成方法存在的问题以及表面修饰的分子印迹合成方法新进展,重点介绍了基于硅胶表面修饰的4种分子印迹聚合物合成方法:牺牲硅胶骨架法、水解缩聚法、化学气相沉积法和接枝共聚法,及其在处理放射性污水、毛细管电色谱、高效液相色谱和催化等方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐伟箭	湖南大学化学化工学院	130	1742	25.0	35.0
2	项伟中	湖南大学化学化工学院	6	189	5.0	6.0
3	周晓	湖南大学化学化工学院	2	89	2.0	2.0
4	徐丰	湖南大学化学化工学院	1	44	1.0	1.0