光刻版数据处理中的工艺涨缩问题

• 作者: 曹庄琪 粟鹏义 陈开盛
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻版 光刻 电子设计自动化 集成电路
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 所属期刊栏目: 集成电路制造技术
• 页码范围: 20-22,37
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2003.07.007

摘要

介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹庄琪		56	224	8.0	11.0
2	粟鹏义		5	4	1.0	2.0
3	陈开盛		5	4	1.0	2.0