影响全息光刻图形质量的因素

• 作者: 冯伯儒 周亚训 张锦 陈芬
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光刻 衍射效率 光刻
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1335-1339
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2451字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.12.021

摘要

使用矩阵转换方法,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算,讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对光刻图形质量的影响,并找出了影响图形质量的主要因素.在此基础上设计了实验系统,最后得到了分辨率基本上只受初始光掩模分辨率限制的光刻图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周亚训	宁波大学信息科学与工程学院	91	510	10.0	19.0
5	陈芬	宁波大学信息科学与工程学院	98	285	7.0	13.0
9	张锦	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	26	204	8.0	13.0
10	冯伯儒	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0