氢化物发生-原子荧光法测定中药中痕量砷

• 作者: 司晚令 朱伯仲 林钰 蒋永贵
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 氢化物发生-原子荧光法 痕量砷 中药
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 页码范围: 703-705
• 页数: 3页
• 分类号: O657.31
• 字数: 1625字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2003.05.016

摘要

采用HNO3-HClO4体系消解中药样品,优化实验条件,建立了氢化物发生-原子荧光法测定中药中痕量砷的方法.砷的相关系数为0.9993,检出限为0.36μg/L,茶叶(GBW08505)验证结果与推荐值一致,相对标准偏差为0.89%.该方法灵敏、简便、快速、准确,对于实际样品的测定得到了满意的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林钰	河南省教育学院化学系	4	157	4.0	4.0
2	蒋永贵	河南省教育学院化学系	2	25	2.0	2.0
3	司晚令	河南省教育学院化学系	1	14	1.0	1.0
4	朱伯仲	河南省教育学院化学系	3	16	2.0	3.0