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摘要:
介绍压阻式硅微加速度计的结构设计.采用等离子体刻蚀技术制作成硅微加速度计.该技术具有腐蚀深宽比高、掩模选择性好的特点,适用于微机械器件的制作.通过测试,加速度计的非线性达到0.2%.讨论了影响加速度计灵敏度的结构因素和工艺因素.
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关键词云
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文献信息
篇名 压阻式硅微加速度计的研制
来源期刊 传感器技术 学科 工学
关键词 硅微加速度计 压阻式 MEMS 等离子体刻蚀
年,卷(期) 2003,(12) 所属期刊栏目 设计与制造
研究方向 页码范围 40-42
页数 3页 分类号 TP212
字数 1431字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-9787.2003.12.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王伟 中国电子科技集团公司第四十九研究所 102 238 8.0 12.0
2 张精华 中国电子科技集团公司第四十九研究所 2 13 2.0 2.0
3 迟晓珠 中国电子科技集团公司第四十九研究所 5 41 3.0 5.0
4 田雷 中国电子科技集团公司第四十九研究所 15 52 5.0 6.0
5 侯占民 中国电子科技集团公司第四十九研究所 4 39 2.0 4.0
6 吴亚林 中国电子科技集团公司第四十九研究所 6 19 2.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅微加速度计
压阻式
MEMS
等离子体刻蚀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感器与微系统
月刊
1000-9787
23-1537/TN
大16开
哈尔滨市南岗区一曼街29号
14-203
1982
chi
出版文献量(篇)
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