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摘要:
本文综述了国际上SiC单晶生长的发展历史及现状.从其结构特点生长方法的选择,生长过程中的问题以及存在的晶体缺陷等方面进行了介绍.
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文献信息
篇名 SiC单晶生长
来源期刊 材料科学与工程学报 学科 物理学
关键词 碳化硅 单晶生长 宽禁带半导体
年,卷(期) 2003,(2) 所属期刊栏目 热点评述
研究方向 页码范围 274-278
页数 5页 分类号 O782.7
字数 3859字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.02.031
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐现刚 山东大学晶体材料国家重点实验室 77 407 10.0 16.0
2 刘喆 山东大学晶体材料国家重点实验室 8 102 5.0 8.0
传播情况
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引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
碳化硅
单晶生长
宽禁带半导体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料科学与工程学报
双月刊
1673-2812
33-1307/T
大16开
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
1983
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
总被引数(次)
42484
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
论文1v1指导