用射频低温氧化法去除未熟烃源岩中的有机质方法研究

• 作者: 刘洪祥 劳永新 卢国林 张在龙 蔺五正 马淑杰
• 来源期刊: 中国石油大学学报(自然科学版)
• 关键词: 高频磁场 低温氧化 未熟烃源岩 有机质 氧化率
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 石油炼制与化工
• 页码范围: 110-112
• 页数: 3页
• 分类号: P593|TE624.91
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-5870.2003.04.029

摘要

利用GP02-A高频感应加热设备产生高频磁场,等离子体在高频磁场中激活氧气形成活性氧,活性氧在低温低压下氧化烃源岩中的有机质,从而达到去除有机质并确定其含量的目的.采用射频低温氧化法对我国7个盆地未熟烃源岩进行了有机质去除的实验,结果表明,在最佳条件下用20～40 h可把未熟烃源岩中的有机质去除,我国7个盆地未熟烃源岩中有机质的质量含量为1.53%～3.17%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张在龙	石油大学化学化工学院	18	177	7.0	13.0
2	马淑杰	石油大学化学化工学院	5	15	2.0	3.0
3	蔺五正	石油大学化学化工学院	4	24	2.0	4.0
4	劳永新	石油大学化学化工学院	10	70	5.0	8.0
5	卢国林	石油大学化学化工学院	1	1	1.0	1.0
6	刘洪祥	石油大学化学化工学院	1	1	1.0	1.0