感应耦合等离子体源制备硬质类金刚石膜的研究

• 作者: 俞世吉 马腾才
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 感应耦合等离子体源 类金刚石膜 基片负偏压
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 125-128
• 页数: 4页
• 分类号: O539
• 字数: 2783字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2003.02.008

摘要

采用感应耦合等离子体源(ICPS)成功地实现化学气相沉积硬质类金刚石(DLC)膜,并考察了基片负偏压对类金刚石膜沉积过程和薄膜性质的影响.薄膜的微观形貌、显微硬度、沉积速率以及结构成分分析表明感应耦合等离子体源适于制备硬质类金刚石膜,并且在相对较低的基片负偏压条件就可以获得高硬度的类金刚石膜.基片负偏压对类金刚石膜化学气相沉积过程和薄膜性质都有显著影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马腾才	大连理工大学物理系	81	688	15.0	21.0
2	俞世吉	中国科学院电子学研究所	15	87	6.0	9.0