电镀法制备CoNi1-xNdxMnP永磁薄膜阵列的研究

• 作者: 张万里 张文旭 张金平 彭斌 杨仕清 蒋洪川
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: CoNi1-xNdxMnP永磁薄膜 电镀 垂直各向异性
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 632-635
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.441|TM273
• 字数: 1722字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2003.05.030

摘要

为了提高永磁薄膜阵列的剩磁和最大磁能积, 在电镀制备CoNiMnP永磁薄膜阵列过程中引入少量稀土Nd原子替代部分Ni原子, 采用光刻和电镀技术在5 mm×5 mm×0.2 mm的硅片上设计并制备了2000个大小为50 μm×50 μm的CoNi1-xNdxMnP垂直各向异性永磁薄膜阵列, 并对该薄膜陈列的组成、磁性能等进行了分析与测试. 结果表明: 薄膜阵列的组成为(质量分数):Nd 1.90%, Co 86.62%, Ni 5.68%, Mn 2.06%, P 3.74%; 阵列垂直方向磁性能为:Hc=59.7 kA·m-1, Br=0.53 T, (BH)max=11.3 kJ·m-3; 阵列水平方向磁性能为: Hc=27.8 kA·m-1, Br=0.42 T, (BH)max=3.2 kJ·m-3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张金平	电子科技大学微电子与固体电子学院	19	83	5.0	8.0
2	蒋洪川	电子科技大学微电子与固体电子学院	74	586	12.0	19.0
3	杨仕清	电子科技大学微电子与固体电子学院	43	401	10.0	18.0
4	张万里	电子科技大学微电子与固体电子学院	142	705	13.0	17.0
5	彭斌	电子科技大学微电子与固体电子学院	87	638	12.0	21.0
6	张文旭	电子科技大学微电子与固体电子学院	35	302	9.0	16.0