多孔硅与聚乙烯咔唑复合光电性能研究

• 作者: 周成瑶 杨德仁 赵毅 阙端麟
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔硅 发光 Ⅰ-Ⅴ特性 PVK
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 507-509
• 页数: 3页
• 分类号: TN304|TN383
• 字数: 2065字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.04.010

摘要

用旋涂法实现了多孔硅与聚乙烯咔唑(PVK)的复合,研究了多孔硅/PVK复合体系的光学性能和电学性能.PL谱的测试发现,复合体系的PL同时具有多孔硅和PVK的峰.此外,在485nm的位置出现了一个新峰,讨论了这个峰的来源.Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,多孔硅/PVK异质结与多孔硅相比,Ⅰ-Ⅴ曲线呈现更好的整流特性,讨论了其原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨德仁	浙江大学硅材料国家重点实验室	180	1513	20.0	31.0
2	阙端麟	浙江大学硅材料国家重点实验室	72	612	13.0	20.0
3	赵毅	浙江大学硅材料国家重点实验室	20	368	6.0	19.0
4	周成瑶	浙江大学硅材料国家重点实验室	8	28	4.0	4.0