铝合金基电沉积Ni-SiC复合镀层的结构及耐磨性研究

• 作者: 吴向清 谢发勤
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 Ni-SiC复合镀层 X射线衍射谱 耐磨性
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2063字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2003.01.006

摘要

利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,2 h热处理后,产生新相Ni3Si,使镀层性能下降.(2) 在300 ℃,2 h热处理条件下,Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31%和11.6%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴向清	西北工业大学工程实践训练中心	88	841	16.0	23.0
2	谢发勤	西北工业大学民航工程学院	115	1256	19.0	28.0