工作气压对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响

• 作者: 付恩刚 庄大明 张弓 杨伟方 赵明
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZAO薄膜 工作气压 电阻率 透过率
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 543-545
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3477字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.023

摘要

工作气压在ZnO∶Al(ZAO)薄膜制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能.本文利用中频交流磁控溅射方法, 采用氧化锌铝(ZnO与Al2O3的质量比为98∶2)陶瓷靶材, 在基体温度为250℃,工作气压范围为0.2～8.0Pa条件下,制备了ZAO薄膜.利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析和观察,利用分光光度计和霍尔测试仪测量了薄膜的光学和电学性能,研究了制备薄膜时不同的工作气压(氩气压力PAr)对薄膜的结构、形貌、光学性能和电学性能的影响.结果表明:随着工作气压的增加,薄膜的电阻率先略有下降然后上升,相应地,载流子浓度和迁移率先略有上升然后下降,而可见光谱平均透过率保持在80%以上. 当基体温度为250℃,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率最低,为4.6×10-4Ω*cm,方块电阻为32Ω时,在范围为490～600nm的可见光谱内的平均透过率可达90.0%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张弓	清华大学机械工程系	81	914	16.0	27.0
2	庄大明	清华大学机械工程系	104	1374	22.0	32.0
3	赵明	清华大学机械工程系	75	574	13.0	21.0
4	付恩刚	清华大学机械工程系	5	127	5.0	5.0