靶材溅射及溅射原子输运的计算机模拟

• 作者: 刘正堂 李阳平 耿东生
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 计算机模拟 溅射 输运 溅射原子
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 603-606
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.045

摘要

用软件SRIM及蒙特卡罗法综合模拟了靶材溅射及溅射原子输运的过程.模拟结果包括溅射原子输运到衬底时的能量、入射角和入射位置.由模拟结果知,溅射原子输运主要受P×d影响(P为真空室气压,d为靶基距),P×d愈大输运到衬底的溅射原子愈少,且能量愈小;溅射原子到达衬底时,能量集中在几电子伏范围内,且在能量很低的区域有分布峰;角度分布主要集中在垂直方向,这与从靶面出射时的分布相似,但垂直方向的分布有所减小;位置分布与从靶面出射时相比,分布范围在径向扩大、趋于均匀化,但主要在靶直径范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	西北工业大学材料科学与工程系	25	201	8.0	13.0
2	刘正堂	西北工业大学材料科学与工程系	120	749	14.0	21.0
3	耿东生	西北工业大学材料科学与工程系	15	150	8.0	12.0