等离子体-热丝CVD技术制备多晶硅薄膜

• 作者: 冯勇 刘丰珍 刘金龙 朱美芳 汪六九 韩一琴
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体-热丝CVD 多晶硅 薄膜结构 光学性质
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 499-503
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.1+2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.05.011

摘要

采用热丝化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积相结合的技术制备了多晶硅薄膜,通过Raman散射、XRD、吸收谱等手段研究了薄膜结构和光学性质.结果表明,与单纯的热丝和等离子体技术相比,等离子体-热丝CVD技术在一定条件下有助于薄膜的晶化和提高薄膜均匀性.Auger谱研究表明等离子体的引入大大降低了硅化物在高温热丝表面的形成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘金龙	中国科学院研究生院物理系	31	895	11.0	29.0
2	冯勇	中国科学院研究生院物理系	52	233	8.0	13.0
3	刘丰珍	中国科学院研究生院物理系	17	105	4.0	10.0
4	朱美芳	中国科学院研究生院物理系	11	98	4.0	9.0
5	汪六九	中国科学院研究生院物理系	3	61	2.0	3.0
6	韩一琴	中国科学院研究生院物理系	6	67	3.0	6.0