AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

• 作者: 劳技军 李戈扬 胡晓萍 虞晓江 顾明元
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜的力学性能 外延生长 亚稳相
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、热学和力学性质
• 页码范围: 2259-2263
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 3575字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.09.030

摘要

采用反应磁控溅射制备了AlN/VN纳米多层膜.研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的力学性能.结果表明:小周期多层膜中的AlN以亚稳的立方相(c-AlN)存在并与VN形成共格外延生长的超晶格.薄膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应.大调制周期下,AlN从立方结构转变为稳定的六方相(h-AlN),并使多层膜形成纳米晶的"砖墙"型结构.讨论认为VN的模板作用有利于c-AlN的生长,但不能显著提高其临界厚度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾明元	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1649	22.0	37.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	胡晓萍	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	11	138	7.0	11.0
4	虞晓江	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	139	7.0	10.0
5	劳技军	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	9	100	6.0	9.0