二维胶体晶体刻蚀法及其应用

• 作者: 孙丰强 张立德 李越 蔡伟平
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 二维胶体晶体 刻蚀法 纳米颗粒阵列
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 前沿进展
• 页码范围: 153-158
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4008字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006

摘要

二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实现阵列性质的大范围调制.而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键,文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术;概述胶体晶体刻蚀技术的应用,并对此进行展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李越	中国科学院固体物理研究所	54	432	13.0	18.0
2	张立德	中国科学院固体物理研究所	101	1916	23.0	41.0
3	蔡伟平	中国科学院固体物理研究所	11	88	6.0	9.0
4	孙丰强	中国科学院固体物理研究所	4	51	3.0	4.0