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摘要:
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度.新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计.安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行.
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文献信息
篇名 微洁净环境中的颗粒监测
来源期刊 集成电路应用 学科 地球科学
关键词 过程工程学 机械臂 颗粒计数器 颗粒监测 工艺设备 硅片 洁净环境 微环境 探针台 洁净度
年,卷(期) 2003,(9) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 71-76
页数 6页 分类号 X831
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
过程工程学
机械臂
颗粒计数器
颗粒监测
工艺设备
硅片
洁净环境
微环境
探针台
洁净度
研究起点
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期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
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15
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