磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征

• 作者: 李美成 殷景华 王培林 王明光 蔡伟 赵连城 郑玉峰
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PtSi薄膜 表面形貌 界面结构
• 年，卷（期）: 2003,（z1）
• 页码范围: 74-77
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 2228字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.z1.016

摘要

采用磁控溅射方法在p-Si (111)衬底上淀积5nm Pt膜,退火后形成PtSi薄膜,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征.实验结果表明,工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌.随着衬底温度增加,薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇,薄膜显微结构由多层变为单层.衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑玉峰	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	38	385	11.0	18.0
2	赵连城	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	107	1153	16.0	29.0
3	蔡伟	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	73	482	13.0	17.0
4	殷景华	哈尔滨理工大学应用科学学院	74	301	9.0	12.0
5	李美成	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	29	200	8.0	13.0
6	王明光	中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室	3	6	2.0	2.0
7	王培林	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	2	2	1.0	1.0