激光驻波透镜聚焦原子束制作超微细图形研究

• 作者: 李展 陈元培 陈旭南 陈献忠
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 原子光学 原子光刻 原子束 驻波 透镜
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 激光器件与原件
• 页码范围: 18-19
• 页数: 2页
• 分类号: TN3
• 字数: 2403字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2003.06.008

摘要

介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计.研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性,数值结果显示在原子束高度准直的情况下,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为10nm左右,可以实现纳米级超微细图形的制作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈献忠	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	17	75	4.0	8.0
2	陈旭南	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
3	李展	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	187	8.0	13.0
4	陈元培	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	12	54	4.0	7.0