微加工中的聚焦离子束直接写入技术

• 作者: Ampere A.TSENG 叶雄英 周兆英 王晓浩 苏才钧
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 沉积 直接写入 蚀刻 聚焦离子束 注入 微加工
• 年，卷（期）: 2003,（11）
• 所属期刊栏目: 专家论坛
• 页码范围: 1-8
• 页数: 8页
• 分类号: TN405
• 字数: 4886字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2003.11.001

摘要

概述了聚焦离子束直接写入、离子研磨、离子注入及离子沉积技术.介绍了利用聚焦离子束技术在镀金硅片上研磨出的图案及制作出的各种纳米结构.聚焦离子束诱导沉积技术为将在各种科学工程领域应用的多种微结构的实现提供了可能,如聚焦离子束真空封装技术,它可被用来真空封装MEMS器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周兆英	清华大学精密仪器与机械学系	205	3706	31.0	54.0
2	叶雄英	清华大学精密仪器与机械学系	62	1070	15.0	31.0
3	王晓浩	清华大学精密仪器与机械学系	69	765	13.0	25.0
4	苏才钧	清华大学精密仪器与机械学系	7	114	5.0	7.0
5	Ampere A.TSENG	清华大学精密仪器与机械学系	1	11	1.0	1.0